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新創納公司擁有非常完備的拋光液驗證設備，在拋光液的開發研究中起著至關重要的作用，這些設備能夠滿足各種尺寸、材質襯底材料的拋光液制成驗證?！?/div>
恭喜上海新安納(浙江新創納)電子科技有限公司再次入圍全球CMP拋光液材料供應商名錄…
化學機械拋光通常稱為?CMP (Chemical Mechanical Polishing)，在整個拋光過程中，機械拋光和化學腐蝕同時起作用，拋光作用部分是機械研磨的，部分是化學腐蝕的?；瘜W作用腐蝕晶圓表面，然后通過拋光設備向被拋元件施加機械壓力，機械研磨帶走腐蝕的表面材料，從而提高材料去除率?！?/div>
浙江新創納電子科技有限公司獲得海寧市年度創新創業團隊表彰，這是繼去年獲得浙江省優秀創業團隊后又一次獲得海寧市政府的表彰?！?/div>
CMP全稱為Chemical Mechanical Polishing，化學機械拋光，是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一?！?/div>
「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司研發生產的集成電路拋光液，經歷了多代升級，目前已經用于多家半導體公司?！?/div>
「上海新安納」浙江新創納是一家專注于研發高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產和銷售公司，在CMP拋光液和拋光技術方面已申請并獲得發明專利兩百余項，廣泛應用于半導體、拋光等行業，年產能一萬多噸?！?/div>
「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司開發了系列碳化硅晶圓（SiC Wafer）拋光液，既開發了碳化硅粗拋液也開發了碳化硅精拋液，主要應用在不同尺寸高純半絕緣體4H-SiC，N型4H-SiC等晶圓拋光?！?/div>
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